Chemiczne czyszczenie płytowych skręcanych wymienników wielkopowierzchniowych w praktyce
Wielkopowierzchniowe wymienniki płytowe stosowane są w układach chłodzenia do odbioru ciepła z mediów przy małej różnicy temperatury. W takiej sytuacji, aby zapewnić wymaganą sprawność procesu odzysku ciepła zwiększa się powierzchnię wymiany ciepła. Innym specyficznym warunkiem jaki występuje w tego typu czyszczeniach jest niska jakość wody, często zawierającej dużą zawartość żelaza Fe+2, czego skutkiem jest powstały między płytami osad. Dodatkowo powstały kamień wodny zawiera ścier metaliczny, jaki powstaje przy dużym przepływie wody surowej w rurach ze stali czarnej. W wyniku zachodzących reakcji fizycznych i przemian chemicznych powstaje osad, który bardzo szybko zasklepia kanały wymiennika i zmniejsza przepływ wody przez wymiennik, a tym samym sprawność odzysku ciepła. Na zdjęciu 1 przedstawiono płaskie kawałki żelazistego osadu, jakie wypadły z wymiennika podczas odmulania i płukania przy dużym przepływie wody.
Taki specyficzny kamień wodny jest trudny do usunięcia, zwłaszcza przy wykorzystaniu zimnej wody. Należy bowiem pamiętać, że maszynownie chłodnicze nie posiadają infrastruktury służącej do podgrzewu wody. Sam wymiennik ma taką wielkość i masę, że podgrzew 900 litrów roztworu i utrzymanie tej temperatury jest niemożliwe.
Ze względu na fakt, że płyty wymiennika wykonano ze stali 316L, bardzo duże znaczenie ma rodzaj użytej technologii. W moim przypadku ograniczam prędkość korozji płyt do wartości 0,04 [g/m2 x h], a w przypadku stali 1H18N9T do wartości 3,1 x 10– 3 [g/m2 x h].
Chemiczne czyszczenie płytowych skręcanych wymienników ciepła (2) – podłączenie instalacji pomocniczej na powrocie
Chemiczne czyszczenie płytowych wymienników wielkopowierzchniowych (3) – sprawdzenie przepływu wody przez wymiennik przed czyszczeniem
Chemiczne czyszczenie płytowych wymienników wielkopowierzchniowych (4) – początek reakcji chemicznej rozpuszczania osadu. Powstała biała piana
Chemiczne czyszczenie płytowych wymienników wielkopowierzchniowych (5) – kulminacja reakcji chemicznej rozpuszczania osadu. Duża zawartość węglanów zwiększyła ilość powstałej piany 3 krotnie
Chemiczne czyszczenie płytowych wymienników wielkopowierzchniowych (6) – koniec reakcji chemicznej rozpuszczania osadu. Piana opadła i stałą się ciemno brązowa
Chemiczne czyszczenie płytowych wymienników wielkopowierzchniowych (7) – duża ilość nierozpuszczonych frakcji kamienia wodnego i ścieru metalicznego, jaki podczas odmulania wymiennika pozostał na podłodze w maszynowni
Chemiczne czyszczenie płytowych wymienników wielkopowierzchniowych (8) – sprawdzenie przepływu wody przez wymiennik po czyszczeniu. Przepływ pełną średnicą rury
Powyższy tekst i załączone zdjęcia obrazują skalę wyzwań, jakie należało pokonać, abym w ciągu 3 dni roboczych wykonał czyszczenie 3 szt. wymienników Sondex typu S110-IS10-301 TM. Na podkreślenie zasługuje krótki czas czyszczenia jednego wymiennika, który wyniósł 14 godzin. W tym czasie z uwagi na bardzo dużą masę osadu do usunięcia wykonywałem 3 cyrkulacje z użyciem nowo przygotowanych roztworów, ponieważ miareczkowanie roztworu wykazywało, że po 3 godzinach cyrkulacji przez wymiennik jego stężenie spadało po nieakceptowanego poziomu. Po wyczyszczeniu wymiennik dokładne odmulano i płukano do neutralnego odczynu pH wody popłucznej.
Alternatywa to czyszczenie mechaniczne, ale wówczas rozkręcenie wymiennika, demontaż płyt, ich wyczyszczenie, wymiana uszczelek i ponowne skręcenie wymiennika trwałoby wielokrotnie dłużej i ze względu na wielokrotnie większy nakład pracy byłoby dużo droższe.
Z uwagi na posiadane kompetencje oraz duże doświadczenie zawodowe wykonane przez mnie chemiczne czyszczenia płytowych wymienników wielkopowierzchniowych stoją na najwyższym poziomie, czego dowodem jest pełne zadowolenie Klientów.
© Kopiowanie, przetwarzanie, rozpowszechnianie tych materiałów w całości lub w części bez zgody autora jest zabronione.